随着光学干涉元器件与算法迭代，市面主流白光干涉仪（White Light Interferometer, WLI）在小视场条件下的垂直测量精度已趋于同质化，均可实现亚纳米级测量水平，稳定输出 Ra、Sa、PV 等形貌参数。单纯追求单点极限精度已经难以拉开设备之间的性能差距，小视场检测仅可获取局部微观信息，存在取样代表性不足问题，难以满足 ISO‑4287、ISO‑25178 对评定长度的规范要求。

若顺利获得图像拼接（Image Stitching）扩大检测范围，会受运动平台机械误差（Mechanical Error）制约，引入错位、形变伪像，降低测量重复性（Repeatability），影响数据可靠性，无法适配半导体载板、高频 PCB、精密光学元件的全域质控需求。

在此行业背景下，大视场（Large Field‑of‑View）表征能力成为重要技术突破点。大视场白光干涉方案可单帧完成大范围三维形貌重建，规避拼接带来的次生误差

WLI 1000系列与ZYGO主流机型参数对标

WLI 1000 系列参数取自设备官方白皮书及公开招标技术资料；ZYGO 各机型参数来源于原厂技术手册、官方产品公示及政府采购公开文件，全部技术数据均可公开溯源。

德国 WLI 大视场技术核心优势

WLI 大视场 3D 白光干涉仪有效弥补传统干涉仪视场范围有限、缺少原生低倍物镜的行业短板，兼顾大视野观测能力与纳米级测量精度。设备可一体化完成工件三维形貌表征、几何尺寸检测、微观缺陷识别分析，适配半导体、精密光学、超精密加工行业的质量管控与科研测量需求。

大视场与高精度一体化测量能力

设备配置专属 0.6× 大视场物镜，突破行业传统设备 1× 倍率起步的限制，原厂标定最大成像视场可达 15.5mm。依托一体化电动转台架构，实现大视场宏观观测与纳米级微观测量的无缝切换，无需拆装镜头或者更换设备，大幅提升批量样品检测效率，保障多组测试数据的一致性。

设备可稳定完成 14mm 端面平面度高精度检测，具备 0.006nm 级超高粗糙度检测性能，能够精准解析 Ra、Rz 等关键表面粗糙度指标，满足超精密器件严苛的纳米量级测量要求。

工业场景核心应用价值

光学镜头若 PV/RMS 面形参数不达标，会造成光路发生偏移，直接导致焦距、成像视场、分辨率等核心光学参数失效，造成镜头整体性能报废。

在半导体 CMP 工艺环节，研磨碟盘金刚石颗粒共面度、金刚石出露高度的一致性，会直接影响抛光工艺效果，决定晶圆成品良率以及耗材的实际使用寿命。

金年会jinnian半导体｜专业白光干涉 3D 轮廓测量方案。亚纳米精度保障，支持自动化定制；高端系列对标国际一线品牌，大视野设计，轻松应对高低反射、复杂材料测量场景。

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